事件總覽：臺灣半導體材料檢測分析領導廠商汎銓科技，近日因核心「光損偵測裝置」專利遭同業光焱科技侵害，已正式提起法律訴訟，請求高達新台幣 2 億元的損害賠償，此舉不僅是維護自身智慧財產權，更彰顯臺灣科技業在全球先進製程領域對技術護城河的堅定捍衛。
📅 專利佈局與技術價值：全球領先的光損偵測
汎銓科技自主研發的「光損偵測裝置」技術，在全球半導體產業中佔據關鍵地位，能精準量測並定位矽光子元件在光傳輸過程中的損耗位置。這項技術對於矽光子晶片、光電整合模組及高速光通訊元件的研發驗證與量產測試具有不可或缺的價值，是推動下一代 AI 資料中心與高速運算發展的基石。汎銓已成功取得臺灣、日本的發明專利，近日更進一步正式取得美國發明專利，在全球主要半導體市場構築起堅實的智慧財產權防線。
📅 2025年6月：專利護城河首度受考驗
汎銓的專利權並非一帆風順。據汎銓董事長柳紀倫透露，早在 2025 年 6 月，曾有另一家同業向專利局提出多達 17 項舉證，意圖撤銷汎銓的「光損偵測裝置」專利。這場挑戰不僅凸顯了這項技術在業界的戰略重要性，也預示了未來在矽光子領域競爭的激烈程度。
📅 2025年11月：專利有效性獲官方確認
經過智慧財產局的嚴謹審查與判定，汎銓的「光損偵測裝置」專利於 2025 年 11 月被確認依然有效存在。柳紀倫董事長強調，這項裁定無疑證明了汎銓專利護城河的「非常強壯」，為公司在技術領先地位上提供了強而有力的法律保障，也堅定了其對抗侵權行為的決心。
📅 近日25日：汎銓正式提告光焱科技
汎銓科技於 25 日正式對外宣布，因發現同業光焱科技涉嫌侵犯其「光損偵測裝置」專利相關的設備與技術方案，已向智慧財產及商業法院提起訴訟。汎銓主張光焱科技侵害其擁有的中華民國第 1870008 號發明專利，並訴請法院判令光焱科技立即停止所有侵權行為，同時請求高達新台幣 2 億元的損害賠償。汎銓強調，此舉是為了避免臺灣最重要的科技產業技術面臨肆意損害並外流，以最高標準捍衛公司的智慧財產權。
📅 市場拓展與設備創新：從分析到銷售
隨著 AI 伺服器、高速資料中心及先進封裝對光互連需求的大幅成長，矽光子技術被視為下一世代高頻寬、低功耗資料傳輸的核心。汎銓科技不僅持續提供研發端的矽光子量測與光損定位分析服務，更積極擴展營運模式，規劃製造銷售量產端 (PD) 及品質驗證 (QA) 所需的矽光子測試設備「MSS HG」。汎銓憑藉其獨家光損定位技術，成功卡位成為矽光子故障分析 (FA) 的「入海口」，目前在分析端的市佔率高達 90% 以上，幾乎呈現寡占狀態，其廠內建置的三台檢測設備，已為大客戶及美國最大 AI 公司服務多年，技術成熟度與客戶認同度極高。
📅 2026年底至2027年：量產設備邁向全球
展望未來，汎銓計畫於 2026 年底舉辦機台發表會，並預計在 2026 年底至 2027 年間正式推出適用於量產端的設備。為符合嚴格的商用標準，新機台正進行外觀與機構的全面升級，包括採用黑色鋼琴烤漆外殼、優化內部理線以利後續維護，並將導入自製的可升降載台，以滿足 12 片矽光子晶片自動測量與 CPO 降階等多元的測試需求。柳紀倫董事長堅定表示，未來無論是引進日本或美國的設備，只要侵犯其核心專利，不論對方公司規模多大，汎銓皆會採取法律行動提告到底，以堅定捍衛公司的智慧財產權。
至今影響與未來展望
汎銓科技此次對光焱科技的專利侵權訴訟，不僅是對單一侵權行為的回應，更是向全球半導體業界發出一個明確信號：臺灣企業將堅決捍衛其在先進技術上的研發成果與智慧財產權。這起訴訟案的結果，將對臺灣半導體產業的專利保護意識與未來競爭格局產生深遠影響。隨著矽光子技術在 AI 與高速運算領域的應用日益廣泛，汎銓作為「入海口」的關鍵角色將更加凸顯，其在分析與設備銷售市場的雙向佈局，預示著公司將持續在全球半導體供應鏈中扮演舉足輕重的地位，確保臺灣在全球科技創新浪潮中站穩腳跟。
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