一句話總結:光焱科技嚴正駁斥汎銓科技高達兩億元的專利侵權指控,強調雙方技術世代存在根本性差異,並譴責同業試圖以舊專利阻礙產業創新。
核心要點
- 侵權爭議核心: 汎銓科技指控光焱科技侵害其「光損偵測裝置」發明專利,並求償 **2億元**;不過,光焱聲明截至目前 **尚未收到任何法院訴訟函件**。
- 技術世代鴻溝: 光焱明確指出,汎銓專利仰賴傳統的 **金相顯微鏡** 進行光損量測,而光焱則採用次世代、更先進的 **高光譜成像技術感測模組**。
- 創新應用整合: 光焱的 **高光譜成像系統** 能高度整合於客戶端的探針台與電測機,直接實現 **矽光子光學檢測**,其光損檢測功能僅是多功能模組的其中一環。
- 專利舉發真相: 汎銓雖強調其專利曾挺過17項舉發,但光焱反擊指出,該舉發不成立是因舉發人證據與汎銓的傳統技術 **「無關」**,反而證明其專利範圍僅限於舊有技術。
- 專利範圍誤解: 光焱強調,專利應保障 **特定技術實施手段**,而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來 **買斷市場**,不應將市場上所有具備此功能的設備都視為侵權。
- 營運穩健承諾: 光焱深耕光學與光電子晶片檢測領域 **長達16年**,面對不實指控,公司營運、業務及設備出貨皆 **正常進行**,財務業務不受影響,將積極捍衛合法權益。
一句話結論
光焱科技堅定認為汎銓的專利指控在技術與法律層面都站不住腳,雙方技術世代的鴻溝清晰可見。這場爭議不僅關乎兩家公司,更反映了產業在技術創新與專利保護之間的微妙平衡。